Okinawa Bilim ve Teknoloji Enstitüsü (OIST), ekstrem ultraviyole (EUV) lithografi ekipmanında sağladığı yeni teknolojik atılımla, 7nm ve daha küçük yarı iletkenlerin üretim maliyetlerini büyük ölçüde düşürebileceğini duyurdu. Bu gelişme, çip üretim tedarik zincirinde köklü değişikliklere yol açma potansiyeline sahip.
OIST tarafından geliştirilen yeni EUV ekipmanının optik sistemi büyük ölçüde sadeleştirilmiş ve enerji tüketimi on kat azaltılmıştır. Bu yenilik, ASML’nin EUV lithografi alanındaki tekelini tehdit edebilir ve yarı iletken üreticileri, yatırımcılar ve hükümetler için ciddi sonuçlar doğurabilir.
ABD’nin Çin’e EUV lithografi ekipmanlarını satışını yasaklaması, Çinli şirketlerin 7nm, 5nm ve daha küçük çip üretimini zorlaştırmış, bu durum ASML’nin yüksek maliyetli ekipmanlarına olan bağımlılığı artırmıştır. OIST’in bu yeni teknolojisi, EUV ekipmanlarının bakım ve enerji tüketimini önemli ölçüde azaltarak, çip üretiminde maliyetleri düşürmeyi vaat ediyor.
OIST Profesörü Tsumoru Shintake, buluşlarının çip üretiminde büyük bir devrim yaratabileceğini belirtti. Geleneksel optik sistemlerin aksine, Shintake’ın tasarımı iki simetrik aynayı düz bir çizgide hizalayarak sadece dört ayna kullanıyor. Bu tasarım, ışık kaynağından gelen enerjinin %10’unun bile ulaşmasını sağlıyor.
OIST, bu yenilikçi teknolojinin patent başvurusunu yaptı ve konsepti kanıtlamak için yarım ölçekli bir modelle test etmeyi planlıyor. Başarılı olursa, 2026 yılında Japon iş ortaklarıyla tam ölçekli bir EUV lithografi sistemi üretilecek.
Bu gelişme, Japonya’nın küresel yarı iletken endüstrisindeki rolünü önemli ölçüde güçlendirebilir. Nikon ve Canon gibi potansiyel iş ortaklarıyla bu teknolojiyi hayata geçirmeyi hedefleyen OIST, çip üretiminde yeni bir dönemin kapılarını aralayabilir.
